淄博言赫特氣有限公司的電子級(VLSI)氯化氫產(chǎn)品生產(chǎn)裝置于2003年投產(chǎn)，經(jīng)北京市科委鑒定，主要用于半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中單晶硅片的氣相拋光、外延基座腐蝕及硬質(zhì)合金制造。

    電子及氯化氫在我們生活的各個領(lǐng)域中具有廣泛的應(yīng)用前景，它不僅是電子工業(yè)中制造大規(guī)模集成電路所需的重要材料之一，而且應(yīng)用于醫(yī)藥、化工、半導(dǎo)體行業(yè)，因此需求量越來越大。 
    目前已有研究人在研究制備過程中成功合成了電子級氯化氫，同時從這些合成方法中發(fā)現(xiàn)解析法和鹽酸脫析法制備氯化氫工藝簡單可大規(guī)模生產(chǎn)，但是制備的氯化氫純度偏低，越來越不滿足電子工業(yè)，尤其是集成電路的要求。合成法生產(chǎn)氯化氫的純度偏高，但其中水量高，腐蝕嚴(yán)重，對設(shè)備要求高，生產(chǎn)成本高。考慮到環(huán)保以及工業(yè)副產(chǎn)品回收利用等多方面因素，制備高純度氯化氫的合成是必然的發(fā)展趨勢，正如石油化工副產(chǎn)物氯化氫提純法。此提純法無需外加反應(yīng)介質(zhì)，因而避免了其它雜質(zhì)介質(zhì)的引入，而且操作簡單，生產(chǎn)成本低，但是在我國技術(shù)還不太成熟。我國的電子級氯化氫產(chǎn)品大多從美，日等國進(jìn)口，價格昂貴。因此我們需要進(jìn)一步研究與完善電子級氯化氫的合成工藝，給我國帶來一定可觀的社會效應(yīng)和經(jīng)濟(jì)效益。

    我公司5.0N電子級(VLSI)氯化氫產(chǎn)品經(jīng)國內(nèi)外多家半導(dǎo)體重點(diǎn)企業(yè)連續(xù)大量在單晶硅片氣相拋光和外延基座腐蝕工藝中廣泛使用，制得的器件產(chǎn)品質(zhì)量與國際知名品牌相當(dāng)。